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QMAXIS氧化铈抛光悬浮液选用指南——0.95μm
高纯度,亚埃级光学精密抛光

来源:本站 日期:2026-07-27 08:47:54 浏览量:96
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  对于高端光学元器件而言,抛光液的纯度直接决定了最终的表面质量与元器件可靠性。QMAXIS(可脉)ULTRAPOLISH系列的第二段氧化铈抛光悬浮液,磨料粒度0.95μm,纯度达99.9%,专为亚埃级表面精度要求的精密光学抛光而研制,是高端光学制造的有力助手。

  一、产品定位:高纯精密光学抛光标杆

        0.95μm氧化铈抛光悬浮液是ULTRAPOLISH系列中的高纯度型号,采用市场上高品质的氧化铈磨料配制,纯度达到99.9%,杜绝钍(Thoria)等有害杂质,可满足高端硅基光学产品与特种材料的抛光要求。其抛光性能在光滑度、划痕与凹坑指标及表面光洁度方面均达到行业标准。

  二、核心优势

  1. 99.9% 高纯度,力排杂质干扰

  采用电子级高纯度氧化铈原料,严格控制重金属、放射性元素等杂质含量。尤其不含钍等放射性杂质,适用于对纯度有极端要求的航空航天、国防光学、高端科研等领域,避免杂质元素对光学性能、材料成分分析造成干扰。

  2. 可控粒径分布,消除亚表面损伤

  0.95μm中位粒径,颗粒分布区间窄,有效消除异常大颗粒导致的亚表面损伤。抛光后亚表面损伤层极浅,降低后续精抛去除余量,整体抛光效率更高。

  3. 先进的悬浮体系,使用简便稳定

  开盖即用型(Ready-to-Use)。融入先进的磨料悬浮化学配方,简化了生产中的浆料配制、混合与输送流程。磨料均匀悬浮不易沉降,抛光过程中磨料供给持续稳定,批次间抛光结果高度可重复。

  4. 亚埃级表面光洁度

  在硅基光学材料上可实现亚埃级(Sub-Angstrom)表面粗糙度,可满足高端光学元器件对表面光洁度、划痕/麻点的较高指标要求。

  三、典型应用场景

  ●  高端光学透镜、棱镜精密抛光

  ●  熔融石英、玻璃、微晶玻璃、激光晶体等材料的超光滑表面抛光

  ●  航空航天、国防光学元器件加工

  ●  半导体光学衬底精密抛光

  ●  对杂质含量有严格要求的特种材料抛光

  ●  环境温度:储存4 °C – 33 °C,短期0 °C – 38 °C ,使用时保持产品恢复室温

  ●  使用前摇匀

四、核心技术参数


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  可脉检测(QMAXIS)作为美国QMAXIS LLC在中国的独资企业,为国内实验室与工业客户提供ULTRAPOLISH系列氧化铈抛光悬浮液。第二段的0.95μm氧化铈抛光悬浮液1加仑包装,产品编号PC-0.95-128。5加仑与55加仑装可供。



         免责声明:本文仅用于技术探讨。


 

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