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QMAXIS氧化铈抛光悬浮液选用指南——0.45μm
高浓缩配方,易清洗,高良率

来源:本站 日期:2026-07-29 08:46:03 浏览量:102
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  中精抛工序是衔接中抛与精抛的关键环节,直接影响结果的良率与综合成本。QMAXIS(可脉)ULTRAPOLISH系列第三段氧化铈抛光悬浮液,磨料粒度0.45μm。45%固含量浓缩配方,惠及更灵活的现场自我调制需求,兼顾优异表面质量与使用成本优势,是量产型光学材料中精抛的解决方案。

  一、产品定位:高浓缩中精抛性价比之选

  第三段0.45μm氧化铈抛光悬浮液采用增强型制造工艺,是QMAXIS针对量产光学客户优化的高浓缩中精抛产品。0.45μm精细氧化铈颗粒均匀分散于独特的悬浮体系中,沉降率同比更低,清洗性优异。45%高固含量赋予用户极大的现场稀释灵活度,可根据不同工艺需求自主调配,大幅降低光学抛光的单位成本。

  二、核心优势

  1. 45%高浓缩配方,使用成本大幅降低

  固含量达45%,客户可根据实际工艺需求,采用电阻率> 18兆欧的优质去离子水现场稀释调配。每加仑原液可调配出更多浆料,有助于减少国内用户综合采购与物流成本,适合量产型光学产品抛光产线使用。

  2. 粒径分布窄,表面质量与去除率兼备

  QMAXIS秉承一贯的质量控制优势,0.45μm中位粒径,配合严格控制的窄分布带宽,在保证较高去除效率的同时,可获得5Å以下的优异表面光洁度。既能快速承接中抛后的表面,又能为精抛减轻负荷,是中精抛工序的理想平衡点。

  3. 出色的悬浮性能,管路不易堵塞

  在众多用户的实践中,0.45μm氧化铈抛光液的悬浮性能表现稳定!在这款高浓度型抛光液的生产工艺中,QMAXIS采用专属悬浮化学配方,确保磨料在抛光液中均匀、持久分散。即使在循环管路、抛光设备供液系统中长时间运行,也不易发生沉降与堵塞,可稳定均匀地输送至工件表面,抛光效果可保持一致。

  4. 易清洗,返工少良率高

  0.45μm高浓度抛光液针对性优化配方清洗特性,抛光完成后氧化铈颗粒易从工件表面与抛光垫上清除。减少颗粒残留造成的后续工序划伤,降低返工率,直接提升产品良率。同时设备清洁维护更加便捷,降低了产线运维成本。

  三、典型应用场景

  ●  光学玻璃、硼硅玻璃、熔融石英、微晶玻璃的精密抛光

  ●  在光学材料抛光环节,0.45μm可以做终抛,也可以作为中精抛工序,起到承上启下的过渡作用

  ●  适合量产抛光,用户的抛光成本将显著降低,光学产品更有竞争力

  ●  适合追求自主稀释,灵活应对抛光材料、工艺阶段的用户

  ●  配合抛光布、抛光沥青、CNC机床、抛光机使用

  ●  金相试样精抛制备,尤其适合软质金属与陶瓷材料

  ●  环境温度:储存4 °C – 33 °C,短期0 °C – 38 °C ,使用时保持产品恢复室温

  ●  使用前摇匀

  四、核心技术参数

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  可脉检测(QMAXIS)作为美国QMAXIS LLC在中国的独资企业,为国内实验室与工业客户提供ULTRAPOLISH系列氧化铈抛光悬浮液。第三段0.45μm氧化铈抛光悬浮液1加仑包装,产品编号PC-0.45-128。



         免责声明:本文仅用于技术探讨。


 

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