在现代精密制造领域，材料表面质量对于产品性能具有重要影响。

 随着光学元件、精密玻璃、先进材料以及高端制造业的发展，传统加工方式已经难以满足对于表面粗糙度、微观缺陷以及加工一致性的更高要求。如何在保证加工效率的同时，实现更加细致、稳定的表面处理效果，成为超精密加工过程中持续关注的问题。

 抛光，作为材料加工的重要环节，不仅需要关注材料去除效率，更需要控制加工过程中的划痕、表面损伤以及微观缺陷。因此，终抛抛光液与抛光垫的合理选择，对于最终成品的质量具有重要意义。

       氧化铈磨料在精密抛光中的应用优势

 氧化铈（Cerium Oxide，CeO₂）作为一种经典的精密抛光材料，凭借其良好的化学机械作用特性，在光学玻璃、熔融石英等硬脆材料加工领域得到了广泛应用。

 与传统磨料相比，氧化铈不仅能够通过微细颗粒实现机械抛光作用，同时能够结合材料表面化学反应，提高加工过程中的表面处理效果。因此，在对表面质量要求较高的精密加工领域，氧化铈抛光液一直是重要选择之一。

 遗憾的是，目前大多数氧化铈抛光粉和抛光液都是微米级的，大约D50粒径0.5μm、0.45μm算是极限了。

 针对超精密加工需求，QMAXIS（可脉）推出 PC-0.075-5000氧化铈抛光悬浮液，采用平均粒径为 0.075μm（75nm） 的氧化铈磨料，通过精细化粒径控制工艺和悬浮技术，为高质量表面加工提供稳定的支持。

       精细颗粒控制，实现高质量表面处理

 在抛光过程中，磨粒尺寸、分散状态以及稳定性都会影响加工对象的表面效果。

 PC-0.075-5000采用0.075μm级氧化铈颗粒，通过先进的粒径控制技术，实现超细颗粒高度集中、粒径分布区间更窄。而不断优化的悬浮技术，让磨粒能够更加均匀地参与材料表面的微量去除过程，有助于降低抛光过程中产生明显划痕的风险，打造更为细致、均匀的表面质量。

 PC-0.075-5000的特点：

  ●  平均粒径0.075μm氧化铈磨料

  ●  良好的颗粒分散稳定性

  ●  易于清洗

  ●  满足超精密纳米级抛光工艺应用

 在实际加工过程中，出色的抛光效果不仅取决于抛光液本身，还需要结合合适的抛光介质，实现抛光体系的协同优化。

       抛光液与抛光布协同，提升加工稳定性

 在精细抛光阶段，抛光布承担着磨粒传递、抛光液保持以及加工压力均匀分布的重要作用。

 针对PC-0.075-5000氧化铈抛光悬浮液，QMAXIS推荐搭配ChemoCloth带孔的、耐腐蚀的聚氨酯抛光布。这款抛光布微孔孔径一致性较高，蜂窝结构稳固，持液均匀度较好，能够在抛光全程均匀释放氧化铈抛光液。

 耐腐蚀特性专为化学机械抛光工况设计，适合需要利用氧化物轻微腐蚀试样表面，再通过机械作用剥离腐蚀层的精抛工艺。ChemoCloth 搭配 0.075μm 氧化铈抛光悬浮液，有助于实现稳定的材料去除与抛光作用，提升超精密抛光阶段的抛光效果。

 此外，根据不同材料特性及加工需求，QMAXIS还提供多种精细抛光布选择，例如柔软的人造天鹅绒结构VelCloth以及具有良好储液能力的FlocCloth，二者常在倾角抛光工况下发挥独特作用，为不同应用场景提供了更加灵活的工艺应对方案。

       QMAXIS（可脉）：专注材料表面处理解决方案

 QMAXIS（可脉）致力于为材料实验室、科研机构以及工业制造领域提供专业的材料制样与表面处理产品。

 围绕材料分析和精密加工需求，QMAXIS（可脉）建立了涵盖切割、镶嵌、研磨、抛光等全环节的产品体系，通过高品质耗材与专业技术支持，帮助客户优化制样流程，提高实验及生产过程中的稳定性。

 在抛光领域，QMAXIS（可脉）不仅关注单一产品性能，更重视抛光液、抛光布以及加工工艺之间的匹配关系，通过完整解决方案满足不同材料、不同应用场景下的表面处理需求。

       面向未来的精密加工需求

 随着先进制造技术不断发展，材料表面处理正逐渐从传统加工向微观尺度控制方向发展。

 PC-0.075-5000氧化铈抛光液，以0.075μm纳米级氧化铈磨料为基础，结合QMAXIS（可脉）专业抛光垫体系，为精密材料表面加工提供了可靠选择。

 从磨粒控制到表面质量优化， 0.075μm氧化铈抛光悬浮液，一经面世，便引起用户高度关注，同规格纳米级氧化铈抛光耗材市面上较为稀缺，经过实验室与小试车间多重验证，可打造更为细致均匀的精抛试样表面，在纳米氧化铈抛光方案中备受青睐。

 更多产品信息及技术资料，欢迎访问：www.qmaxis.cn

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